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光刻膠烘箱的典型結(jié)構(gòu)

  • 1. 加熱系統(tǒng)

  • 加熱方式：

    • 熱板接觸式：直接傳導(dǎo)加熱（適用于單片晶圓，溫度均勻性高）。

    • 熱風(fēng)循環(huán)式：對流加熱（適合批量處理，需優(yōu)化氣流分布）。

    • 紅外輻射式：非接觸加熱（減少機械應(yīng)力，用于柔性基板）。

  • 控溫元件：

    • PID算法+鉑電阻（RTD）或熱電偶（T/C），閉環(huán)控制精度±0.1℃。

  • 2. 送風(fēng)系統(tǒng)

  • 層流設(shè)計：垂直單向流（Downflow）確保潔凈度，風(fēng)速0.3~0.5 m/s。

  • 風(fēng)量調(diào)節(jié)：變頻風(fēng)機按工藝階段調(diào)整風(fēng)量（如升溫階段高風(fēng)量，保溫階段低風(fēng)量）。

  • 3. 腔體與載具

  • 材質(zhì)：不銹鋼316L或鋁合金（表面陽極氧化），耐化學(xué)腐蝕。

  • 載具類型：

    • 石英舟（耐高溫，用于SiC/GaN器件）。

    • 聚醚醚酮（PEEK）托盤（防靜電，用于有機光刻膠）。

  • 4. 控制系統(tǒng)

  • 多段程序控溫：支持10~20段溫度曲線（如前烘：90℃/60s → 110℃/120s）。

  • 數(shù)據(jù)追溯：記錄溫度、氧含量、壓力等參數(shù)，符合SEMI S2/S8標(biāo)準(zhǔn)。

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