一、簡要介紹

該真空箱式爐系列用于在1100℃下半導體器件、金屬材料的熱處理和還原性燒結等工藝，也可用于產(chǎn)品的炭化試驗。該爐采用電阻絲加熱，PID程序控溫儀控制，溫控儀可設定30 段升溫曲線、PID控制參數(shù)自整定、并具有斷偶、超溫報警保護等功能。爐體采超輕質(zhì)高鋁纖維材料，具有熱容小、溫度升降控制靈活、節(jié)能等特點，設備已根據(jù)所需冷態(tài)極限真空≤400Pa集成配備了真空泵及相關配件。

該設備為密封式加熱腔體,確保設備可在真空條件下,或者一些特殊氣氛條件下使用，相比普通箱式爐，使用環(huán)境更靈活，使用范圍更廣泛。

二、技術參數(shù)